納米顆粒薄膜在防反射、防霧、自清潔等多功能涂料領域中應用廣泛。它也被頻繁用于生產，例如材料保護層，防止金屬腐蝕等方面。如何制備這些納米顆粒薄膜是值得考慮的問題。我們通常很難從目前的幾種制備方法中選出最適合自己應用的方法。但如果薄膜的堆積密度不是首先需要考慮的問題時，浸漬鍍膜則是目前最簡單的納米粒子涂覆基材的方法。更多百歐林納米薄膜沉積解決方案，請查看產品頁。

浸漬鍍膜工藝流程
理論上，浸漬鍍膜非常簡單。將基材垂直浸入含有納米顆粒的溶液中。首先讓基材保持浸沒在溶液中，并留出一些時間進行納米顆粒沉積；之后，將基材從溶液中提拉出并使其干燥。但是，當需要精確控制沉積材料在基材上的性質時（厚度、沉積密度等），浸漬鍍膜的過程也有幾個因素需要考慮。

浸漬鍍膜過程一般分為三個步驟：

• 基材浸入
• 納米顆粒吸附和基材表面溶劑排出
• 溶劑揮發

基材浸入
基材的浸入通常是采用垂直浸入的方法。但為了得到不對稱的沉積厚度，還可以采用不同角度的傾斜浸入方法。浸入通常由計算機程序控制，以實現自動浸入和恒定的浸入速率。浸入后，將基材保留在溶液中，留出足夠的時間完全潤濕基材。基材和納米顆粒表面的物理化學性質都會影響需要浸漬的時間長短。

納米顆粒沉積
在浸沒完成之后，將基材從溶液中提拉出。基材提拉的速度會影響鍍層的均勻性，較高的提拉速度會導致鍍層較厚。因此，在基材提出的整個過程中應該保持速度恒定，并且避免任何振動。
溶液的濃度也是重要的影響因素。濃度太低會導致基材的鍍層不均勻，高濃度溶液會引起溶液相中的納米顆粒團聚，從而導致納米顆粒的多層自組裝。因此，合適的溶液濃度對保持鍍膜的均勻性也十分重要。

在某些時候，可能還會通過將基材浸入多次，從而制備多層薄膜。也可能需要通過加入不同浸漬溶液來生產具有類復合材料的多層薄膜，這些功能都可以使用我們的多杯浸漬鍍膜機實現。基材表面溶劑此時會被排出。

揮發
揮發階段是使溶劑從制備的基材鍍膜中蒸發。揮發時間通常取決于所使用的溶劑，并可以通過加熱基材來減少揮發時間。如果是使用揮發性很強的溶劑（例如酒精），則揮發可在提拉過程中，溶液排出階段就開始了。

如何選擇正確的沉積方法
如上述討論，浸漬鍍膜提供了一種最簡單快速的納米顆粒沉積方法。但還是需要根據您的應用選擇合適的沉積方式和工藝。如要獲得不同納米顆粒沉積方法的概述，請點擊下載文件5種常見納米顆粒薄膜沉積制備方法。

參考文獻
[1] L. Landau, B., and G. Levich, "Dragging of a liquid by a moving plate", Dynamics of Curved Fronts 1988, 141-153.